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高精度共晶真空爐尺寸

發(fā)布時間:2024-11-25 05:54:11   來源:上海金頂廣告有限公司   閱覽次數(shù):7次   

微通道散熱器采用低溫共燒陶瓷(LTCC)制成,由于press-pack封裝沒有內(nèi)部絕緣,熱沉的引入增大了回路的寄生電感,上下兩側(cè)的微通道散熱器設(shè)計(jì)可提供足夠的散熱能力,同時外形上厚度較薄可降低功率回路的電感。微通道散熱器的電氣回路和冷卻回路分離,可以使用非介電流體進(jìn)行冷卻。雖然LTCC的導(dǎo)熱性不如金屬和AlN陶瓷好,但仿真結(jié)果表明,在總熱耗散為60W,采用LTCC微通道熱沉水冷散熱時,SiC芯片至大結(jié)溫只為85℃,并聯(lián)芯片間的至大結(jié)溫差小于0.9℃,并聯(lián)芯片的結(jié)溫分布比較均勻。結(jié)到熱沉熱阻為0.2℃/W,熱沉至高溫度為73℃,熱沉到冷卻劑的熱阻為0.8℃/W。IGBT自動化設(shè)備確保封裝過程中IGBT模塊的穩(wěn)定性和可靠性。高精度共晶真空爐尺寸

高精度共晶真空爐尺寸,IGBT自動化設(shè)備

在2.5D結(jié)構(gòu)中,不同的功率芯片被焊接在同一塊襯底上,而芯片間的互連通過增加的一層轉(zhuǎn)接板中的金屬連線實(shí)現(xiàn),轉(zhuǎn)接板與功率芯片靠得很近,需要使用耐高溫的材料,低溫共燒陶瓷(LTCC)轉(zhuǎn)接板常被用于該結(jié)構(gòu),下圖為一種2.5D模塊封裝結(jié)構(gòu)。而在3D模塊封裝結(jié)構(gòu)中,兩塊功率芯片或者功率芯片和驅(qū)動電路通過金屬通孔或凸塊實(shí)現(xiàn)垂直互連,是一種利用緊壓工藝(Press-Pack)實(shí)現(xiàn)的3D模塊封裝,這種緊壓工藝采用直接接觸的方式而不是引線鍵合或者焊接方式實(shí)現(xiàn)金屬和芯片間的互連,該結(jié)構(gòu)包含3層導(dǎo)電導(dǎo)熱的平板,平板間放置功率芯片,平板的尺寸由互連的芯片尺寸以及芯片表面需要互連的版圖結(jié)構(gòu)確定,整個結(jié)構(gòu)的厚度一般小于5mm。廣東高精度外殼組裝兼容設(shè)備自動化設(shè)備的應(yīng)用使IGBT模塊的封裝工藝更加智能化和高效化。

高精度共晶真空爐尺寸,IGBT自動化設(shè)備

伴隨著電網(wǎng)規(guī)模越來越大,電壓等級越來越高,電力系統(tǒng)朝著更加智能化方向發(fā)展,高壓、大功率和高開關(guān)速度要求功率器件承擔(dān)的功能也更加多樣化,工作環(huán)境更加惡劣,在此背景下,除芯片自身需具有較高的處理能力外,器件封裝結(jié)構(gòu)已成為限制器件整體性能的關(guān)鍵。而傳統(tǒng)的封裝或受到材料性能的限制或因其自身結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不能適應(yīng)高壓大電流高開關(guān)速度應(yīng)用所帶來的高溫和高散熱要求。為保證器件在高壓高功率工況下的安全穩(wěn)定運(yùn)行,開發(fā)結(jié)構(gòu)緊湊、設(shè)計(jì)簡單和高效散熱的新型功率器件,成為未來電力系統(tǒng)用功率器件發(fā)展的必然要求。

封裝結(jié)構(gòu)散熱類型:以傳統(tǒng)半導(dǎo)體Si芯片和單面散熱封裝為表示的常規(guī)封裝器件獲得了良好的發(fā)展和應(yīng)用,技術(shù)上發(fā)展相對比較成熟。但隨著對更高電壓等級更高功率密度需求的不斷增長,傳統(tǒng)應(yīng)用于Si器件的封裝技術(shù)已不能夠滿足現(xiàn)有發(fā)展和應(yīng)用的要,目前傳統(tǒng)Si基芯片的至高結(jié)溫不超過175℃,溫度循環(huán)的范圍至大不超過200℃。相比Si器件,SiC器件在導(dǎo)通損耗、開關(guān)頻率和具有高溫運(yùn)行能力方面具有明顯的優(yōu)勢,至高理論工作結(jié)溫更是高達(dá)600℃。若采用現(xiàn)有Si基封裝技術(shù),那么以SiC為表示的寬禁帶半導(dǎo)體將無法充分發(fā)揮其高溫運(yùn)行的能力。IGBT自動化設(shè)備實(shí)現(xiàn)了絲網(wǎng)印刷過程中的錫膏均勻覆蓋和準(zhǔn)確定位。

高精度共晶真空爐尺寸,IGBT自動化設(shè)備

針對氮化鋁陶瓷基板的IGBT應(yīng)用展開分析,著重對不同金屬化方法制備的覆銅AlN基板進(jìn)行可靠性進(jìn)行研究。通過對比厚膜法、薄膜法、直接覆銅法和活性金屬釬焊法金屬化AlN基板的剝離強(qiáng)度、熱循環(huán)、功率循環(huán),分析結(jié)果可知,活性金屬釬焊法制備的AlN覆銅基板優(yōu)于其他工藝基板,剝離強(qiáng)度25MPa,(-40~150)℃熱循環(huán)達(dá)到1500次,能耐1200A/3.3kV功率循環(huán)測試7萬次,滿足IGBT模塊對陶瓷基板可靠性需求。在電力電子的應(yīng)用中,大功率電力電子器件IGBT是實(shí)現(xiàn)能源控制與轉(zhuǎn)換的中心,普遍應(yīng)用于高速鐵路、智能電網(wǎng)、電動汽車與新能源裝備等領(lǐng)域。隨著能量密度提高,功率器件對陶瓷覆銅基板的散熱能力和可靠性的要求越來越高。在自動鍵合階段,IGBT自動化設(shè)備能夠精確地進(jìn)行鍵合打線,實(shí)現(xiàn)電路的完整連接。專業(yè)DBC底板貼裝機(jī)尺寸

IGBT自動化設(shè)備為動態(tài)測試提供了可靠的電源和載荷控制。高精度共晶真空爐尺寸

探索IGBT模塊中不同金屬化方法覆銅氮化鋁陶瓷基板的可靠性研究方法:使用厚度1mm的AlN陶瓷基板,無氧高導(dǎo)電銅箔(OFHC,0.05mm),五水硫酸銅(CuSO4·5H2O),鹽酸(HCl),硫酸(H2SO4),Cu-P陽極板(P含量0.05%),AgCuTi活性金屬焊膏(Ti含量4.5%),燒結(jié)Cu漿。將AlN陶瓷和銅箔切割為尺寸10mm×10mm的正方形塊狀,并使用1000目砂紙打磨表面,然后在蒸餾水浴中超聲清洗20min備用。DPC金屬化:采用磁控濺射先在AlN陶瓷表面制備厚約1μm的Ti打底層,再制備一層厚約3μm的Cu種子層增厚至約50μm,完成金屬化。高精度共晶真空爐尺寸

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